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真空管式炉的简介

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真空管式炉内的热传递是通过炉管管壁进行的。由于需要足够的传热温差,加上管内膜热阻、管内焦垢层热阻、管壁金属热阻和各种受热不均匀性的作用,管壁金属温度一般要比管内介质高几十到一百多摄氏度。这是与一般设备完全不同的。再者,由于直接见火,任何泄漏都可能造成爆炸或火灾,这也是非见火设备不能相比的。

真空管式炉首次使用或长时间不用时,要在120℃左右烘烤1小时,在300℃左右烘烤2小时后使用,以免造成炉膛开裂。炉温不得超过额定温度,以免损坏加热元件及炉衬。禁止向炉膛内直接灌注各种液体及溶解金属,保持炉内的清洁。

真空管式炉程控系统由计算机、接口电路、外部通用设备、工业生产对象组成,具体包括硬件结构和软件结构,硬件结构包括计算机、加热元件、接口电路、触发电路、检测元件和执行机构等。软件操作方式和用户界面都是根据用户的特点而设计的,用户在使用时操作简单、方便、灵活。

主要用于各工矿企业、科研单位化验室、实验室加温、热处理,是各类化验室中不可缺少的仪器设备。

真空管式炉程控系统采用交流电供电、可控硅的连接电路,由触发电路产生一个同步脉冲,由1-2端与双向可控硅相连,RDS为快速熔断器,其作用为可控硅的过电流保护。计算机通过D/A转换器发出控制信号,控制触发电路产生触发脉冲,通过脉冲控制可控硅导通角的大小来控制流过加热元件电流的大小,从而控制炉温。

在温度测量电路中,热电偶作为温度传感器,采集炉内实时温度,经冷端补偿后,由A/D转换器将电压信号转成数字信号送入PC机,PC机将采集到的信号经过处理,计算把实时的温度值在显示器上显示,描绘出温度曲线供用户参考,系统的控制算法采用PID算法,计算出每一时刻控制量。将控制量由D/A转化器转换成模拟电压信号送出,通过触发电路产生触发脉冲,控制可控硅导通角的大小,从而控制流过加热元件的电流大小。